什么是集成电路掩膜_什么是集成电路掩膜

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冠石科技:投建的半导体光掩膜版可广泛应用于多个集成电路半导体领域金融界11月10日消息,冠石科技在互动平台表示,公司投建的半导体光掩膜版系半导体产业链上游核心材料之一,主要应用于IC端,可广泛应用于高性能计算、人工智能、移动通信、智能电网、高速轨道交通、新能源汽车、消费类电子等众多产业涉及的集成电路半导体领域。公司半导体光...

晶合集成申请掩膜版专利,有效降低半导体结构发生“断路”概率金融界2024年1月6日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“掩膜版、光学临近修正方法、装置及电子设备“,公开号CN117348333A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种掩膜版、光学临近修正方法、装置及电子设备,应用于半...

晶合集成申请掩膜版图检测专利 实现自动确定最小间距金融界2023年12月25日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以及电子设备“,公开号CN117274267A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示,本申请提供了一种掩膜版图的自动检测方法、装置、处理器以...

晶合集成申请掩膜版清洁方法专利,提升芯片的生产效率金融界2023年12月7日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“掩膜版清洁方法、装置和计算机可读存储介质“,公开号CN117170181A,申请日期为2023年11月。专利摘要显示,本发明涉及一种掩膜版清洁方法、装置和计算机程序产品。掩膜版清洁方...

晶合集成申请光刻掩膜版专利,提升光刻的效率和产能金融界2023年11月30日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“半导体器件的制造方法、半导体器件及光刻掩膜版“,公开号CN117133634A,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本发明提供一种半导体器件的制造方法、半导体器件及光刻掩膜版...

晶合集成申请半导体掩膜版及其制作方法专利,提高了掩膜版中各个...金融界2024年1月17日消息,据国家知识产权局公告,合肥晶合集成电路股份有限公司申请一项名为“一种半导体掩膜版及其制作方法“,公开号CN117406545A,申请日期为2023年12月。专利摘要显示,本发明涉及半导体领域,特别是涉及一种半导体掩膜版及其制作方法。半导体掩膜版包...

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冠石科技:光掩膜版产品覆盖350-28nm制程,可广泛应用于多类晶圆设计...金融界1月12日消息,有投资者在互动平台向冠石科技提问:请问公司的光掩膜版对存储芯片HBM高宽带有哪些应用?公司回答表示:公司投建的光掩膜版产品主要应用于集成电路半导体芯片,且产品制程覆盖350-28nm(其中以45-28nm成熟制程为主),系市场主流中高端产品,可广泛应用于高性...

使用量和重要性不断上升 机构看好刻蚀设备投资价值机构指出,刻蚀设备是重要性仅次于光刻机的半导体设备,刻蚀设备采购开支占设备采购开支总额的比例超过20%。随着多重掩膜和3D叠堆等集成电路技术加速渗透,刻蚀设备在半导体制造中的使用量和重要性不断上升。在半导体制造工艺中,薄膜沉积、光刻、刻蚀三大工艺是半导体制造...

⊙＾⊙ 钛媒体科股早知道:全球首个海水淡化浓盐水提锂合作项目签约随着多重掩膜和3D叠堆等集成电路技术加速渗透,刻蚀设备在半导体制造中的使用量和重要性不断上升。在半导体制造工艺中,薄膜沉积、光刻... 电子气体是指用于半导体及其它电子产品生产的气体。根据中国半导体行业协会的统计,电子特气占半导体材料整体市场的14%,在半导体材料...

广州:鼓励发展光刻胶、光芯片等高端半导体制造材料【广州:鼓励发展光刻胶、光芯片等高端半导体制造材料】广州市人民政府网站发布《广州开发区广州市黄埔区促进集成电路产业发展办法》,文件提到,鼓励发展大硅片、光掩膜、电子气体、光刻胶、抛光材料、高纯靶材、光芯片等高端半导体制造材料,支持清洗设备、光刻机、刻蚀设...