什么是机械化学_什么是机械设计

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安集科技股价上涨1.95% 科创板百元股溢价幅度超千倍截至2025年5月6日15时15分,安集科技最新股价为188.30元,较前一交易日收盘价上涨3.60元。当日开盘价为185.60元,最高触及192.54元,最低下探183.47元,成交量为39115手,成交金额达7.35亿元。安集科技主营业务为关键半导体材料的研发及产业化,主要产品包括化学机械抛光液和光...

宁夏京科盛达机械租赁有限公司注册“京科盛达”商标获核准天眼查财产线索显示,近日,宁夏京科盛达机械租赁有限公司申请注册“京科盛达”商标获核准,国际分类为01-化学原料,商标注册号79895016。资料显示,宁夏京科盛达机械租赁有限公司法定代表人为贾欣荣,成立于2024年,位于银川市,是一家以从事租赁业为主的企业。企业注册资本20万...

辽宁凯特琳机械设备有限公司成立,注册资本300万人民币序号股东名称持股比例1辽宁凯特琳洗涤设备有限公司100%经营范围含机械设备销售;洗涤机械销售;商业、饮食、服务专用设备销售;普通机械设备安装服务;电子、机械设备维护(不含特种设备);机械零件、零部件销售;食品用洗涤剂销售;日用化学产品销售;日用品销售;专业保洁、清洗、...

安集科技申请一种化学机械抛光液专利,可以改善抛光后铜线的碟型...金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211703225.4,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,电荷调节剂,腺嘌呤类衍生物,络合剂,氮唑...

˙▽˙ 安集科技申请一种化学机械抛光液专利,降低抛光后铜表面缺陷数量金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211703236.2,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,五元含氮杂环化合物,六元含氮杂环化合...

安集科技申请一种化学机械抛光液专利,通过复合使用两种研磨颗粒,该...金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211711994.9,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,催化剂,多元有机酸,氧化剂,氨基酸和pH...

安集科技申请一种化学机械抛光液专利,能显著改善铜表面的粗糙度金融界2024年7月2日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液“,公开号CN202211711773.1,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明揭示了一种用于铜抛光的化学机械抛光液,该抛光液包括研磨颗粒,含氮杂环类腐蚀...

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安集科技申请一种化学机械抛光液专利,可以在碱性条件下显著抑制钨...金融界2024年6月28日消息,天眼查知识产权信息显示,安集微电子科技(上海)股份有限公司申请一项名为“一种化学机械抛光液”,公开号CN202211698520.5,申请日期为2022年12月。专利摘要显示,本发明提供了一种化学机械抛光液,包括研磨颗粒,钨速度抑制剂,pH调节剂和水。本发明...

⊙▽⊙ 华海清科:化学机械抛光工艺应用于各类芯片制造 已实现国内客户端...金融界12月11日消息,有投资者在互动平台向华海清科提问:你好,请问公司CMP设备能应用的芯片领域有哪些?公司CMP设备已应用领域有哪些?哪些处于验证状态?谢谢!公司回答表示:化学机械抛光(CMP)工艺主要应用于前道晶圆制造和先进封装等芯片制造工艺,其根据客户端的不同可应...

华海清科取得一种化学机械抛光方法专利金融界2024年11月23日消息,国家知识产权局信息显示,华海清科股份有限公司取得一项名为“一种化学机械抛光方法”的专利,授权公告号 CN 114888722 B,申请日期为2022年5月。