什么是有机溶剂型清洗剂

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嘉智信诺申请一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用...金融界 2024 年 8 月 11 日消息,天眼查知识产权信息显示,安徽嘉智信诺化工股份有限公司申请一项名为“一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物及其制备方法和应用“,公开号 CN202410566398.9,申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示,本发明公开了一种溶剂型易清洁有机硅改性聚合物...

创志生命科技(江苏)有限公司取得一种去有机溶剂的卫生级设备专利,...有限公司取得一项名为“一种去有机溶剂的卫生级设备”的专利,授权公告号 CN 221752299 U,申请日期为2023年10月。专利摘要显示,本实用新型公开了一种去有机溶剂的卫生级设备,包括有机溶剂回收组件、清洗灭菌组件卧式蒸发器的腔体、搅拌组件和真空口组;真空口组包括一左一...

≥▽≤ 天啊!原来羽绒服不适合干洗!这样清洗,才更保暖!回家记得告诉爸妈干洗的原理是利用有机溶剂溶解服装表面的污渍,而后让有机溶剂挥发,就能实现干进干出的效果。 较为常用的干洗剂是四氯乙烯,它清洁力强,在... 1 有部分洗衣机具有羽绒服清洗模式,是个不错的选择。 如果洗衣机没有对应模式,则可以选择轻柔档位,或者选择手洗。 切记不要粗暴地用&ld...

江化微申请半导体氧化硅深孔蚀刻清洗剂及蚀刻方法专利,优良的蚀刻...本发明公开了一种半导体氧化硅深孔的蚀刻清洗剂,包括以下组分:0.5%～5%的氟化氢、6%～20%的氟化铵、30%～60%的与水互溶的极性有机溶剂、5%～20%的铝离子络合剂、0.3%～10%的铝保护剂、10%～35%的水以及10～10000ppm的表面活性剂。该半导体氧化硅深孔的蚀刻...

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鼎龙股份申请化学机械抛光后清洗相关专利,改善铜的 CMP 过程后清洗...湖北鼎龙控股股份有限公司申请一项名为“化学机械抛光后清洗组合物及半导体器件基板的清洗方法“,公开号 CN202410523991.5,申请日期为 2024 年 4 月。专利摘要显示,本发明涉及化学机械抛光后清洗组合物,包含:pH 调节剂、季铵碱、润湿剂、有机氮氧螯合剂、有机溶剂;所述有...

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颖泰生物申请解毒喹的清洁化制备方法专利,能够使废水量减少、生产...在第一有机溶剂、碱和第一催化剂存在下,使5‑氯‑8‑羟基喹啉和氯乙酸甲酯进行第一接触反应,得到5‑氯‑8‑羟基喹啉乙酸甲酯的步骤;2)在第二有机溶剂和第二催化剂存在下,使步骤1)得到的5‑氯‑8‑羟基喹啉乙酸甲酯和2‑庚醇进行第二接触反应,得到解毒喹的步骤;其中,步骤2...

上海新阳取得聚酰亚胺清洗液专利,清洗能力强、腐蚀速率低上海新阳半导体材料股份有限公司取得一项名为“一种聚酰亚胺清洗液“,授权公告号CN116218611B,申请日期为2021年12月。专利摘要显示,本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分:30%‑80%有机溶剂、0.001%‑0.01%还原型谷胱甘肽、...

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上海新阳获得发明专利授权:“一种聚酰亚胺清洗液”专利名为“一种聚酰亚胺清洗液”,专利申请号为CN202111481386.9,授权日为2024年6月21日。专利摘要:本发明公开了一种聚酰亚胺清洗液。本发明的清洗液的原料包括下列质量分数的组分:30%‑80%有机溶剂、0.001%‑0.01%还原型谷胱甘肽、0.001%‑0.25%半胱氨酸、1%‑5...

⊙▽⊙ 杭州研趣申请一种锂离子电池氧空位的测试方法专利,提高测试锂离子...使用有机溶剂对正极极片进行浸泡、清洗,然后晾干,得到极片样品;(2)将极片样品放入仪器样品仓内,设定仪器参数,开始扫描测试,得到电子共振波谱图;(3)对步骤(2)得到的电子共振波谱图进行拟合处理,得到拟合谱图,根据公式:计算得到拟合谱图中吸收峰的g因子,再通过与标准值比较,确定...

∪ω∪ 信维通信申请应变片的金属基材专利,制作的应变片镀铜层结合力可达 5B应变片的金属基材的电镀铜的方法包括使用有机溶剂对应变片的金属基材进行超声清洁处理,应变片的金属基材包括铜镍合金、镍铬合金、镍钼合金、铁铬铝合金;使用碱性溶液对超声清洁处理后的应变片的金属基材进行化学脱脂处理;使用酸性溶液对化学脱脂处理后的应变片的金属基材...

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