用什么可以除胶残留_用什么可以除胶残留

*** 次数：1999998 已用完，请联系开发者***

京东方A获得发明专利授权:“光刻胶残留检测方法、面板及制造方法和...证券之星消息,根据企查查数据显示京东方A(000725)新获得一项发明专利授权,专利名为“光刻胶残留检测方法、面板及制造方法和显示装置”,专利申请号为CN202110252289.6,授权日为2024年8月2日。专利摘要:本申请公开了一种光刻胶残留检测方法、面板及制造方法和显示装置,检...

中国一汽申请一种碳化硅沟槽形成和台面光刻胶自对准覆盖方法专利,...并涂覆碳化用光刻胶;通过泛曝光与显影去除部分碳化用光刻胶,使第二介质层的上表面露出;完全去除第二介质层。本发明通过利用自对准方式,可实现台面区域的光刻胶完全覆盖,同时避免沟槽内光刻胶残留,便于后续碳化后仅针对沟槽内部的高温处理;与主流碳化硅制程工艺兼容,单步工...

常青树取得一种硅酮胶过滤机构专利,过滤筒清理更方便快速本实用新型提供一种硅酮胶过滤机构,属于过滤器技术领域,以解决传统的过滤装置清理时,需要对滤筒进行拆分清理,拆分麻烦,拆分后,滤筒内部残留的硅酮胶与外部空气接触时间较长会逐渐硬化,清理更为麻烦,费时费力的问题,包括;支撑组件;所述硅酮胶输送机构底部与支撑组件固定连接;...

∩△∩