中国的极紫外光刻机最新消息

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˙△˙ ASML CEO:由于美国禁售EUV光刻机,中国芯片技术将落后西方15年|...由于美国对华禁止出口EUV光刻设备,与英特尔、台积电和三星等行业巨头相比,中国芯片技术将落后西方10年或15年,主要还是因为美国禁止出口EUV(极紫外光)设备,导致中国无法获得尖端光刻机。“这(禁令)确实会产生影响,”富凯对NRC表示,这是他的技术分析,但并非是真...

压力山大!过度封锁不可取,美媒:EUV光刻机变得不那么重要了能够遏制住中国的芯片半导体发展势头。然而,这个计划的结果却出乎意料地向着与预期相悖的方向发展。华为,一家曾被围堵的巨头,在风雨的洗礼下,竟然逆势崛起,更加强大。 就在不久前,一个消息在网络上传播开来,涉及华为的紫外光刻技术专利,这条消息迅速影响到了荷兰的ASML...

SK海力士将升级中国半导体工厂 采用第四代10纳米工艺【CNMO新闻】据CNMO了解,韩国芯片制造巨头SK海力士正在考虑打破美国对华极紫外(EUV)光刻机出口相关限制,以提升其在中国的半导体... SK海力士计划今年将其中国无锡工厂的部分DRAM生产设备提升至第四代10纳米工艺。然而,对于“无锡工厂将进行技术升级”的消息,SK海力...

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